ФТТ, 2008, том 50, выпуск 2

 Содержание  Предыдущая статья  Следующая статья  Поиск   KOI  WIN  DOS 

Влияние толщины слоя хрома на морфологию и оптические свойства гетероструктур Si(111)/нанокристаллиты CrSi2/Si(111)

Н.Г.Галкин, Т.В.Турчин, Д.Л.Горошко

Институт автоматики и процессов управления Дальневосточного отделения Российской академии наук,
690041 Владивосток, Россия
E-mail: ngalk@iacp.dvo.ru

(Поступила в Редакцию 17 мая 2007 г.
В окончательной редакции 26 июня 2007 г.)

Методами дифракции медленных электронов, атомной силовой микроскопии и оптической спектроскопии на отражение и пропускание исследован рост и оптические свойства эпитаксиальных гетероструктур Si(111)/нанокристаллиты CrSi2(111) на основе наноразмерных островков дисилицида хрома (CrSi2) на Si(111), сформированных методом реактивной эпитаксии с различными толщинами (0.1, 0.3, 0.6, 1.0 и 1.5 nm) при температуре 500oC с последующим эпитаксиальным ростом кремния при температуре 750oC. Определены особенности изменения плотности и размеров островков CrSi2 на поверхности кремния при T=750oC при увеличении толщины хрома. Установлено, что в гетероструктурах с толщиной хрома от 0.6 nm и более небольшая часть ограненных нанокристаллитов (НК) Cr2Si2 выходит в приповерхностную область кремния, что подтверждается данными оптической отражательной спектроскопии и анализом спектральной зависимости коэффициента поглощения. Показано, что существует критический размер НК, выше которого их движение к поверхности кремния затруднено. Уменьшение плотности вышедших НК при толщинах хрома 1.0--1.5 nm связано с формированием более крупных НК в толщине слоя кремния, что и подтверждается данными дифференциальной отражательной спектроскопии.

Работа выполнялась при финансовой поддержке грантов РФФИ N 07-02-00958\_a, ДВО РАН N 06-I-П1-001 и N 06-I-ОФН-118.

PACS: 61.14.Hg, 68.03.Cd, 78.67. Bf

 PDF версия (528Kb)   Другие выпуски  Другие журналы   Помощь 
Copyright (C) 2008, Коллектив авторов  Разработано...  webmaster